发明名称 |
PROCEDE D'EPURATION DU GAZ D'UN LASER EXCIMEUR A HALOGENURE DE GAZ RARE |
摘要 |
<P>L'INVENTION CONCERNE UN PROCEDE D'EPURATION D'UN GAZ DE LASER QUI EST UTILISE DANS UN LASER EXCIMEUR A HALOGENURE DE GAZ RARE ET QUI COMPREND UN GAZ RARE, UN GAZ FORMANT SOURCE HALOGENE ET DES IMPURETES.</P><P>SELON L'INVENTION, ON MET LE GAZ DU LASER EN CONTACT AVEC AU MOINS UN COMPOSE SOLIDE ALCALIN 14 CHOISI PARMI DES COMPOSES DE METAUX ALCALINS ET DES COMPOSES DE METAUX ALCALINO-TERREUX POUR AINSI CONVERTIR LES SUBSTANCES ACTIVES ET ACIDES CONTENUES DANS LA GAZ DU LASER EN COMPOSES SOLIDES DE METAL ET ENSUITE ON MET LA PARTIE RESTANTE DU GAZ DE LASER EN CONTACT AVEC DE LA ZEOLITE 18 POUR AINSI ENLEVER LES IMPURETES RESTANTES PAR ADSORPTION.</P><P>L'INVENTION S'APPLIQUE NOTAMMENT A LA REGULARISATION DE LA PUISSANCE DE SORTIE D'UN LASER A GAZ RARE.</P>
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申请公布号 |
FR2587914(A1) |
申请公布日期 |
1987.04.03 |
申请号 |
FR19860013476 |
申请日期 |
1986.09.26 |
申请人 |
CENTRAL GLASS CY LTD |
发明人 |
KOHZO HAKUTA, MINORU ARAMAKI ET TAKASHI SUENAGA;ARAMAKI MINORU;SUENAGA TAKASHI |
分类号 |
H01S3/036;H01S3/225;(IPC1-7):B01D53/34;B01D8/00;B01D53/04;H01S3/22 |
主分类号 |
H01S3/036 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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