| 发明名称 |
ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0115952(B1) |
申请公布日期 |
1987.04.01 |
| 申请号 |
EP19840300569 |
申请日期 |
1984.01.30 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
SUGISHIMA, KENJI SYARUMAN MUSASHINAKAHARA 309;NAKAGAWA, KENJI |
| 分类号 |
H01J37/304;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03B41/00 |
主分类号 |
H01J37/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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