| 发明名称 |
MICROWAVE PLASMA PROCESSING METHOD AND EQUIPMENT THEREOF |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6265421(A) |
申请公布日期 |
1987.03.24 |
| 申请号 |
JP19850204265 |
申请日期 |
1985.09.18 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OGAWA YOSHIFUMI;SAIKAI MASAHARU;OKADA TAKEO |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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