| 发明名称 |
PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2492847(B1) |
申请公布日期 |
1987.03.20 |
| 申请号 |
FR19810019830 |
申请日期 |
1981.10.22 |
| 申请人 |
SUWA SEIKOSHA KK |
发明人 |
SHOICHI KOMATSU ET SEIICHI IWAMATSU;IWAMATSU SEIICHI |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/40;C23C16/458;C30B33/00;H01L21/31;(IPC1-7):C23C11/08;H01L21/314 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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