发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 Nouveau procédé pour former un cristal du groupe quaternaire III-V sur le cristal du groupe III-V en conservant la superposition du réseau par rapport à celui du cristal du groupe III-V. Il est facile de former un super-réseau composé d'une première couche de cristaux du groupe binaire III-V (désigné III1-V1) et d'une couche de cristaux du groupe ternaire III-V (III1-III2-V2) sur un substrat d'un cristal du groupe III-V, les réseaux des deux couches étant maintenus par rapport au substrat. On obtient une couche de super-réseau plus stable si le rapport de l'épaisseur de pellicule du cristal III1-V1 par rapport à celle du cristal III1-III2-V2 est choisi pour que les compositions ainsi constituées gardent la superposition du réseau par rapport au cristal d'origine lorsque le super-réseau forme spontanément un cristal mélangé ou dopé d'impuretés.
申请公布号 WO8701522(A1) 申请公布日期 1987.03.12
申请号 WO1986JP00443 申请日期 1986.08.29
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 KURODA, TAKAO;WATANABE, AKIYOSHI;TSUJI, SHINJI;OHISHI, AKIO;MATSUMURA, HIROYOSHI
分类号 H01S5/00;B82Y20/00;H01L29/15;H01L29/80;H01L31/10;H01S5/34;H01S5/343 主分类号 H01S5/00
代理机构 代理人
主权项
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