发明名称 二氢苯并[b]噻吩及其用作抗真菌药物的配方
摘要 本申请叙述了具有抗真菌活性的2—烷基、2—烯基和2—炔基2,3—二氢—2—(1H—氮杂茂基(C1—C2)烷基)苯并[b]噻吩类化合物,特别是2—烷基、2—烯基和2—炔基—2,3—二氢—3—羟基—2—(1H—1—咪唑基甲基)—4—、5—、6—、和7—卤代苯并[b]噻吩及其有关的衍生物。本申请还叙述了含本发明化合物的药用配方,并且它们可用于治疗敏感性宿主(如人)的真菌感染。
申请公布号 CN86105964A 申请公布日期 1987.03.11
申请号 CN86105964 申请日期 1986.08.06
申请人 先灵公司 发明人 迪南纳思·法基尔·拉纳;拉塞尔·埃德温·派克
分类号 C07D409/06;C07D495/10;A61K31/415 主分类号 C07D409/06
代理机构 中国专利代理有限公司 代理人 李雒英
主权项 1、制备化学式I所示的外消旋体或具有旋光活性的化合物,或其可药用盐的方法; <img file="86105964_IMG1.GIF" wi="1150" he="419" />式中 X为一个或一个以上独立地选自卤素、(低级)烷基、卤代(低级)烷基、氰基、硝基、取代与未取代苯基、或取代与未取代苯基(低级)烷基的基团,其中苯基上的取代基为从卤素、硝基、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、(低级)链烷酰基、(低级)烷基和卤代(低级)烷基所组成的一组或一组以上基团中选择的一至四个取代基; Y为取代或未取代的咪唑基,或取代与未取代1,2,4-三氮杂茂基,其中的取代基为一个或一个以上独立地选自(低级)烷基、取代与未取代苯基、或取代与未取代苯基(低级)烷基的基团,而苯基上的取代基为从卤素、硝基、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、(低级)链烷酰基、(低级)烷基、和卤代(低级)烷基所组成的一组或一组以上基团中选择的一至四个取代基; R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>为各自独立的基团,包括氢原子、-CH<sub>2</sub>NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、-OR<sub>4</sub>、-SR<sub>5</sub>、(低级)烷基、(低级)炔基、卤素、取代与未取代苯基、或取代与未取代苯基(低级)烷基,其中取代基团为从卤素、硝基、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、(低级)链烷酰基、(低级)烷基、卤代(低级)烷基所组成的一组或一组以上基团中选择的一至四个取代基;或者R<sub>1</sub>与R<sub>2</sub>同它们与之相连的碳原子一起形成羰基、硫代羰基、<img file="86105964_IMG2.GIF" wi="469" he="106" /><img file="86105964_IMG3.GIF" wi="1719" he="1075" />R<sub>6</sub>、R<sub>7</sub>、R<sub>8</sub>和R<sub>9</sub>为各自独立的氢原子、(低级)烷基;或者为取代与未取代苯基、或取代与未取代的苯基(低级)烷基,其中取代基为从卤素、硝基、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、(低级)链烷酰基、(低级)烷基和卤代(低级)烷基所组成的一组或一组以上基团中选择的一至四个取代基;或者为取代与未取代杂环基,该杂环基是五元或六元环体系,它含有碳原子和一至四个杂原子,该杂原子选自一个或一个以上N、O和S、取代与未取代苯基、或者为取代或未取代苯基(低级)烷基,其中的取代基为从卤素、硝基、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、(低级)链烷酰基、(低级)烷基和卤代(低级)烷基所组成的一组或一组以上基团中选择的一至四个取代基; R<sub>4</sub>和R<sub>5</sub>为各自独立的氢原子、(低级)烷基、(低级)链烯基、N、N-二(低级)烷基氨基甲酰基、N,N-二(低级)烷基硫代氨基甲酰基、芳羰基、或者为取代与未取代苯基、或取代与未取代苯基(低级)烷基,其中的取代基为从卤素、硝基、-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>、(低级)链烷酰基、(低级)烷基和卤代(低级)烷基所组成的一组或一组以上基团中选择的一至四个取代基;或者R<sub>4</sub>和R<sub>5</sub>同它们在-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>或-CH<sub>2</sub>-NR<sub>4</sub>R<sub>5</sub>中与之相连氮原子一起形成前所定义的取代与未取代杂环基; Z为O、S或NR<sub>5</sub>,其中R<sub>5</sub>的定义同前所述; n=1或2; m=1,2,3或4, 其特征在于: 为制备其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>同它们与之相连的碳原子一起形成羰基,R<sub>3</sub>为基团<img file="86105964_IMG4.GIF" wi="500" he="194" />的式Ⅰ化合物,在溶剂中加热化学式Ⅴ的化合物,生成化学式Ia的化合物,其中R<sub>7</sub>、R<sub>8</sub>、R<sub>9</sub>、X、Y、n和m的定义同前所述,<img file="86105964_IMG5.GIF" wi="1075" he="469" /><img file="86105964_IMG6.GIF" wi="1119" he="438" />
地址 美国新泽西州凯尼尔沃斯·盖洛平希尔路2000号