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发明名称 PRODUCTION OF TARGET FOR SPUTTERING
摘要
申请公布号 JPS6254001(A) 申请公布日期 1987.03.09
申请号 JP19850194473 申请日期 1985.09.03
申请人 SEIKO EPSON CORP 发明人 AOYAMA AKIRA
分类号 C23C14/34;B22F3/08;G11B5/85;G11B5/851;G11B7/26;G11B11/10;G11B11/105 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
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