发明名称 |
APPARATUS FOR DEPOSITING MEMBRANE TO SUBSTRATE BY CATHODIC SPUTTERING TREATMENT |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS6254078(A) |
申请公布日期 |
1987.03.09 |
申请号 |
JP19860137229 |
申请日期 |
1986.06.12 |
申请人 |
LEYBOLD HERAEUS GMBH |
发明人 |
ANTON DEIITORITSUHI;KURAUSU HAATEITSUHI |
分类号 |
C23C14/34;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/38;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/31;H01L21/363 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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