发明名称 APPARATUS FOR DEPOSITING MEMBRANE TO SUBSTRATE BY CATHODIC SPUTTERING TREATMENT
摘要
申请公布号 JPS6254078(A) 申请公布日期 1987.03.09
申请号 JP19860137229 申请日期 1986.06.12
申请人 LEYBOLD HERAEUS GMBH 发明人 ANTON DEIITORITSUHI;KURAUSU HAATEITSUHI
分类号 C23C14/34;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/38;H01J37/34;H01L21/203;H01L21/31;H01L21/363 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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