Photoreactive polymers for the preparation of relief structures.

摘要

Photoreaktive Polymere, die durch Bestrahlung mit aktinischem Licht ihre Struktur und Eigenschaften ändern, enthalten im Polymeren Ylid-Gruppierungen von N-Heteroaromaten mit 6 Ringatomen und ein oder zwei aromatischen bzw. heteroaromatischen Ringen, im allgemeinen in Mengen von 5 bis 50 Gew.-% des Polymeren. Sie werden für die Herstellung von Reliefstrukturen, insbesondere für die Strukturierung von Leiterplatten oder Halbleiterbauelementen verwandt.