发明名称 SPUTTERING INSTALLATION FOR REACTIVE COATING OF A SUBSTRATE WITH HARD MATERIALS.
摘要 L'installation comprend un carter (1) avec une conduite d'amenée (3, 4) pour un gaz de réaction et un gaz rare, un magnétron (6) ainsi qu'au moins une fixation (9) pour les substrats, la fixation (9) se positionnant, avant la surface de pulvérisation et entre un dispositif d'ionisation, au moyen d'au moins deux électrodes (7, 8). Une (8) de ces électrodes fonctionne comme émetteur d'électrons et l'autre (7) est mise sur un potentiel positif par rapport à l'électrode émettrice (8), la fixation (9) des substrats étant elle-même sur une tension négative par rapport à la masse.
申请公布号 EP0211057(A1) 申请公布日期 1987.02.25
申请号 EP19860901066 申请日期 1986.01.31
申请人 LEYBOLD-HERAEUS GMBH 发明人 HERKLOTZ, GUNTHER;ELIGEHAUSEN, HANS
分类号 C23C14/34;C23C14/35;C23C14/54;H01J37/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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