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发明名称 PHOTORESIST FOR CREATING RELIEF STRUCTURES ON HIGH-TEMPERATURE RESISTANT POLYMERS
摘要
申请公布号 EP0103225(B1) 申请公布日期 1987.02.04
申请号 EP19830108447 申请日期 1983.08.27
申请人 MERCK PATENT GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG 发明人 KLUG, RUDOLF, DR.;HARTNER, HARTMUT, DR.;MERREM, HANS-JOACHIM, DR.;NEISIUS, KARL HEINZ, DR.
分类号 G03F7/004;C08F291/18;G03F7/027;G03F7/038;H01L21/027;(IPC1-7):G03C1/68 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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