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发明名称
SELECTIVE OXIDATION OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPS6224644(A)
申请公布日期
1987.02.02
申请号
JP19850162958
申请日期
1985.07.25
申请人
SONY CORP
发明人
HAYASHI HISAO
分类号
H01L21/316
主分类号
H01L21/316
代理机构
代理人
主权项
地址
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