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发明名称 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY EQUIPMENT
摘要
申请公布号 JPS6224621(A) 申请公布日期 1987.02.02
申请号 JP19850161954 申请日期 1985.07.24
申请人 HITACHI VLSI ENG CORP;HITACHI LTD 发明人 AONO TAKESHI;HAYAKAWA HAJIME;MIZUNO FUMIO;KATO MAKOTO;DANNO YOSHIHIRO;MORI SHIGEKI
分类号 H01L21/027;H01L21/30 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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