发明名称 使用溅镀靶材的薄膜形成方法,以该方法形成的薄膜及光学记录媒体
摘要 提供一种合金材料,一薄膜及一光记录媒体,当用为溅镀靶时,可达成不同任务,如保持高反射率,改进气候适应性,实现合金之容易生产及实现溅镀程序时之稳定性及简单性/轻易性。包括银为主要成份及0.5-4.9%原子量之靶之AgPd合金,利用溅镀靶材料薄膜形成,以此钯材料,构成光记录媒体(10)之反射薄膜(16)之薄膜得以形成,包含反射薄膜(16)作为一构成成份之光记录媒体(10)得以产生。
申请公布号 TW460598 申请公布日期 2001.10.21
申请号 TW088119532 申请日期 1999.11.09
申请人 苏妮股份有限公司;古屋金属股份有限公司 发明人 荒谷胜久;上野 崇
分类号 C23C14/14;G11B7/26 主分类号 C23C14/14
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种使用溅镀靶材之AgPd合金薄膜形成方法,其特 征为钯以0.5-4.9%原子量含于银内。2.一种薄膜,其 特征为此薄膜系利用AgPd合金所形成,该合金包括0. 5-4.9%原子量之钯。3.一种光学记录媒体,其特征为 包含利用AgPd合金形成之薄膜,该合金之银中包括0. 5-4.9%原子量范围之钯。4.如申请专利范围第1项之 使用溅镀靶材之AgPd合金薄膜形成方法,其中包括0. 1-3.5%原子量范围之一或二铜及铬。5.如申请专利 范围第2项之利用AgPd合金形成之薄膜,其中包括一 或二铜或/及铬,其范围在0.1-3.5%原子量。6.如申请 专利范围第3项之包含利用AgPd合金形成之薄膜之 光学记录媒体,其特征为其中包括一或二铜及铬, 其范围在0.1-3.5%原子量。7.一种使用溅镀靶材形成 之AgPdTi合金薄膜,其特征为银中包含0.1-1.5%原子量 之钯及0.1-2.9%原子量之钛。8.一种薄膜,其特征为 此薄膜系利用AgPdTi合金所形成,其中包括0.1-1.5%原 子量之钯,及0.1-2.9%原子量之钛。9.一种光学记录 媒体,其特征为包含利用AgPdTi合金形成之薄膜,该 合金中包括0.1-1.5%原子量之钯,及0.1-2.9%原子量之 钛。图式简单说明: 第一图为一光学记录媒体之立体剖面图,该媒体具 有二层结构,作为具有利用本发明之溅镀靶材料形 成之薄膜之光学记录媒体之一例。
地址 日本