光阻图案形成方法及光阻图案形成装置

摘要

【课题】提供使用短波长曝光用光束，能够以所需的深度形成光阻图案之凹部的光阻图案形成方法。【解决手段】一种光阻图案形成方法，于玻璃基材21之表面形成含有二苯甲酮系化合物之树脂层22，于树脂层22的表面形成光阻层23，将波长为100～300nm的雷射光束照射于光阻层23来形成潜像，藉由将形成着潜像的光阻层23显影，于光阻层23上形成凹凸状的光阻图案。