Precursor material delivery system for atomic layer deposition,申请号GB20050003353-传众专利搜索

发明名称	Precursor material delivery system for atomic layer deposition
摘要
申请公布号	GB0503353(D0)	申请公布日期	2005.03.23
申请号	GB20050003353	申请日期	2003.09.10
申请人	PLANAR SYSTEMS INC	发明人
分类号	C23C16/44;C30B25/14	主分类号	C23C16/44
代理机构		代理人
主权项
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