| 主权项 |
1.一种光罩基板资讯产生方法,其特征在于包含下 列步骤: 藉由测定装置取得与光罩基板之主面之表面形状 相关之第1资讯之步骤;及由上述第1资讯与曝光装 置之光罩夹持构造之相关资讯,产生在将上述光罩 基板装设于上述曝光装置时,藉由模拟所得之与上 述主面之平坦度相关之第2资讯之步骤。 2.一种光罩基板资讯产生方法,其特征在于包含下 列步骤: 藉由测定装置取得与光罩基板之主面之表面形状 相关之第1资讯之步骤,及由上述第1资讯与曝光装 置之光罩夹持构造之相关资讯,产生在将上述光罩 基板装设于上述曝光装置时,藉由模拟所得之与上 述主面之平坦度相关之第2资讯之步骤;且 光罩基板系基于由此第2资讯所得之上述光罩基板 之主面之平坦度而选择。 3.如请求项1或2之光罩基板资讯产生方法,其中产 生与藉由模拟所得之上述主面之平坦度相关之第2 资讯之步骤中,配置于光罩台上之光罩基板之配置 方向系对互相差异90度之2方向个别产生。 4.一种光罩基板资讯产生方法,其特征在于包含: 关于复数光罩基板之每一个,由藉由测定装置所测 定之主面之表面形状之相关资讯与曝光装置之光 罩夹持构造之相关资讯,产生在将各光罩基板装设 于上述曝光装置时,藉由模拟所得之与上述主面之 平坦度相关之资讯之步骤;且 管理由上述步骤中所产生之资讯所得之上述光罩 基板之主面之平坦度之相关资讯。 5.如请求项4之光罩基板资讯产生方法,其中藉由对 于收容有各光罩基板之容器,将上述各光罩基板与 于上述步骤藉由模拟所产生之表面形状相关资讯 记载作为上述光罩基板之主面之平坦度之相关资 讯,以进行管理。 6.如请求项1、2、4中任一项之光罩基板资讯产生 方法,其中上述光罩基板上之主面上形成有光罩图 案。 7.如请求项6之光罩基板资讯产生方法,其中上述光 罩图案系包含电路图案或对位图案之至少一种者 。 8.如请求项1、2、4中任一项之光罩基板资讯产生 方法,其中上述光罩基板上预先形成有对位用记号 。 9.如请求项1、2、4中任一项之光罩基板资讯产生 方法,其中上述藉由模拟之第2资讯之取得系使用 有限元素法。 10.一种光罩基板之制造方法,其特征在于包含下列 步骤: 准备于石英基板上形成有遮光体之光罩基板之步 骤; 藉由测定装置取得与上述光罩基板之主面之表面 形状相关之第1资讯之步骤; 由上述第1资讯与曝光装置之光罩夹持构造之相关 资讯,产生在将上述光罩基板装设于上述曝光装置 时,藉由模拟所得之与上述主面之平坦度相关之第 2资讯之步骤;及 判断由此第2资讯所得之上述光罩基板之主面之平 坦度是否合乎规格之步骤。 11.一种光罩基板之制造方法,其特征在于包含下列 步骤: 藉由测定装置取得与光罩基板之主面之表面形状 相关之第1资讯之步骤; 由上述第1资讯与曝光装置之光罩夹持构造之相关 资讯,产生在将上述光罩基板装设于上述曝光装置 时,藉由模拟所得之与上述主面之平坦度相关之第 2资讯之步骤;及 判断从此第2资讯所得之上述光罩基板之主面之平 坦度是否合乎规格之步骤;且 在上述光罩基板之平坦度经判断不合乎规格时,剥 离上述光罩基板之主面上之遮光体,并于上述基板 之主面形成新遮光体。 12.一种光罩基板之制造方法,其特征在于包含下列 步骤: 藉由测定装置取得与光罩基板之主面之表面形状 相关之第1资讯之步骤; 由上述第1资讯与曝光装置之光罩夹持构造之相关 资讯,产生在将上述光罩基板装设于上述曝光装置 时,藉由模拟所得之与上述主面之平坦度相关之第 2资讯之步骤;及 判断从此第2资讯所得之上述光罩基板之主面之平 坦度是否合乎规格之步骤;且 在上述光罩基板之平坦度经判断不合乎规格时,剥 离上述光罩基板之主面上之遮光体,并于研磨上述 基板之主面后,于上述基板之主面形成新遮光体。 13.一种光罩基板之检查方法,其特征在于包含下列 步骤: 藉由测定装置取得与光罩基板之主面之表面形状 相关之第1资讯之步骤;及 由上述第1资讯与曝光装置之光罩夹持构造之相关 资讯,产生在将上述光罩基板装设于上述曝光装置 时,藉由模拟所得之与上述主面之平坦度相关之第 2资讯之步骤;且 基于此第2资讯,选择合乎规格之上述光罩基板。 图式简单说明: 图1系显示有关本发明之第1实施形态之曝光光罩 制造方法之流程图。 图2(a)系光罩基板1主面之平面图,亦即为说明第1及 第2区域之图式;图2(b)系为说明光罩基板之第1区域 1之图式,亦即第1区域1之剖面图;图2(c)系为说明光 罩基板之第1区域1之图式,亦即第1区域1之其他剖 面图;图2(d)系为说明光罩基板之第2区域2之图式, 亦即第2区域2之剖面图。 图3(a)系为说明光罩基板之第1区域1之图式,亦即第 1区域1之概略立体图;图3(b)系为说明光罩基板之第 1区域1之图式,亦即第1区域1之其他之概略立体图; 图3(c)系为说明光罩基板之第1区域1之图式,亦即第 1区域1之其他之概略立体图;图3(d)系为说明光罩基 板之第1区域1之图式,亦即第1区域1之其他之概略 立体图。 图4系显示有关本发明之第3实施形态之曝光光罩 之制造方法的流程图。 图5系显示有关本发明之第4实施形态之曝光光罩 之制造方法的流程图。 图6系显示有关本发明之第6实施形态之伺服器模 式图。 |
