发明名称 拇趾外翻矫正器
摘要 一种拇趾外翻矫正器,系由矫正带、鞋内垫(或鞋中底)、减压减震凸块、及控制足部运动用于足部运动控制之胶条所组成,在鞋内垫(或鞋中底)的相对于人体足部的横向足弓及足跟位置处各设有一凹槽,该凹槽皆装设有一减压减震凸块,并于减压减震凸块上方设有复数凸点,该凸点有助于使用者的脚底与鞋内垫(或鞋中底)之摩擦力增加,又该凸点可为相对于减压减震块高硬度材质或磁石,于穿着步行时并做适当的足部按摩刺激;而该矫正带系一条楔状弹性板体,一端厚度较厚,贴附于鞋内垫(或鞋中底)上,而矫正带另一端较薄,且设有魔鬼毡于较薄之一端可黏着于鞋内垫(或鞋中底)下之魔鬼毡,形成该矫正带可让使用者之脚部大拇趾穿过,并该矫正带对脚部大拇趾有一向外侧之拉力,有助于脚部大拇趾侧弯的使用者,使其大拇趾获得矫正;并在鞋内垫(或鞋中底)底面的侧边周围设有复数个沟槽,该沟槽可放置数个具弹性胶条用以控制足部运动,其运用原理系根据使用者足底压力中心之轨迹路径配合脚部大拇趾的矫正过程中,控制足部前、后旋的运动角度以修正步行时作用在足部骨髂关节面上不正常的地面反作用力。
申请公布号 TWM319738 申请公布日期 2007.10.01
申请号 TW096201724 申请日期 2007.01.29
申请人 国立阳明大学 发明人 杨世伟
分类号 A61F5/14(2006.01) 主分类号 A61F5/14(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种拇趾外翻矫正器,包括: 一矫正带,该矫正带之位置依正常一、二趾间空间 设置,作一楔状延伸,该矫正带一端较薄,该较薄之 一端上设有魔鬼毡,且于对应于矫正带位置之鞋底 下亦设有可供较薄一端黏附之魔鬼毡,矫正带之另 一端较厚,黏附或榫卡于鞋内垫(或鞋中底)上,当较 薄之一端黏附于鞋内垫(或鞋中底)下时,该矫正带 内缘形成一圆弧状空间,该空间可容纳脚部之大拇 趾,由于较厚之一端黏附于鞋内垫(或鞋中底)上,且 较薄之一端向下延伸黏贴于鞋底,使得该矫正带有 足够之稳固力与对拇趾施加一向外侧之拉力,且黏 贴于底面之较薄面依拇趾关节的尺寸及施力的大 小与底面呈一内侧楔垫(medial wedge),提供步行及前 足推进施力时作用在第一趾间关节向内的转矩,以 配合矫正带静态向外牵引的动态校正; 一减压减震凸块,该减压减震凸块系由一根部延伸 一蕈部所组成,而该根部可稳固接合于鞋内垫(或 鞋中底)所设置的凹槽,并可在鞋内垫(或鞋中底)的 上缘面可露出减压减震凸块的蕈部,且在蕈部的上 缘面设有复数个凸点,可增加脚底盘与鞋内垫(或 鞋中底)的摩擦力,该凸点亦有助于使用者的脚底 与鞋内垫(或鞋中底)之摩擦力增加; 一鞋内垫(或鞋中底),在该鞋内垫(或鞋中底)上缘 面的前、后端适当位置处皆设有凹槽,该凹槽可与 减压减震凸块之根部作接合稳固,且在鞋内垫(或 鞋中底)前端侧边设有一凹陷处,该凹陷处可与矫 正带作滑扣稳固,且在鞋内垫(或鞋中底)底面的侧 边周围皆设有复数个沟槽,同样在鞋内垫(或鞋中 底)的后端面的侧边皆设有复数个沟槽,该沟槽与 相邻的沟槽间为一等距设置,且每一沟槽长度不一 ,在鞋内垫(或鞋中底)的外侧边所设置的沟槽长度 较长,而愈往鞋内垫(或鞋中底)中心内部则沟槽渐 为缩短,并可放置用于控制足部运动之胶条。 2.如申请专利范围第1项所述之拇趾外翻矫正器,其 中该矫正带为一橡塑胶材质或纤维织带。 3.如申请专利范围第1项所述之拇趾外翻矫正器,其 中该凸点可为相对于减压减震块高硬度材质或磁 石。 4.如申请专利范围第1项所述之拇趾外翻矫正器,其 中该减压减震凸块为一塑胶材质或橡胶材质。 5.如申请专利范围第1项所述之拇趾外翻矫正器,其 中该该矫正带之设置较宽部亦可与鞋内垫(或鞋中 底)底部做楔状卡榫连接,依不同拇趾尺寸与拇外 翻程度配合不同矫正带。 6.如申请专利范围第1项所述之拇趾外翻矫正器,其 中该用于控制足部运动之胶条得具弹性,且该用于 足部运动控制之胶条材质可为橡、矽胶或塑胶材 质。 图式简单说明: 第一图为本创作拇趾外翻矫正器之鞋内垫(或鞋中 底)正面分解示意图。 第二图为本创作拇趾外翻矫正器之减压减震凸块 组合示意图。 第二图A为本创作拇趾外翻矫正器之矫正带之另一 应用实施例示意图。 第三图为本创作拇趾外翻矫正器之用于足部运动 控制之胶条分解示意图。 第四图为本创作拇趾外翻矫正器之用于足部运动 控制之胶条组合示意图。 第五图为本创作拇趾外翻矫正器之使用实施例示 意图。
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