Process for obtaining a photosensitive polymer having a high resolution, developable by plasma, and photolithographic process using this polymer.

摘要

Composition pour une résine photosensible de haute résolution développable par plasma incluant un polymère et un composé photosensible, le polymère étant de la famille des polymères acryliques et/ou poly(cétones vinyliques) et le composé photosensible étant de la famille des azides aromatiques, caractérisée en ce que le polymère contient en outre dans une chaîne latérale au moins un noyau aromatique sur lequel au moins un atome de chlore (Cl<->) a été substitué à au moins un atome d'hydrogéne (H<->), comme par exemple : <IMAGE> Application: Masques de résolution submicronique pour la réalisation de microcircuits semiconducteurs