发明名称 | 滤光片生产中用的掩膜 | ||
摘要 | 一种在滤光片生产中采用的带有许多孔的掩膜,它可以防止蒸涂的金属覆盖到基片的被切割部分而仅仅能覆盖到基片上为掩膜孔所暴露的部分。掩膜孔的边缘加工成薄的阶梯形,这样的结构能够消除所谓的遮蔽部分和避免掩膜的弯曲。 | ||
申请公布号 | CN85104654A | 申请公布日期 | 1986.12.24 |
申请号 | CN85104654 | 申请日期 | 1985.06.17 |
申请人 | 株式会社堀场制作所 | 发明人 | 山岸丰;石田正彦 |
分类号 | C23C14/04 | 主分类号 | C23C14/04 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 王宪模;王申 |
主权项 | 1、应用在滤光片生产中的一种掩膜,此种掩膜带有许多孔,能防止蒸涂的金属涂到基片的被切割部份,通过使用固定安装在基片上这种掩膜,就能使拟蒸涂的金属只能蒸涂到基片上为掩膜孔所暴露出的部份,该掩膜的特征在于已将其孔的边缘通过加工成阶梯形而变得较薄一些。 | ||
地址 | 日本京都府京都市 |