COMPOSITION POUR OBTENIR UNE RESINE PHOTOSENSIBLE DE HAUTE RESOLUTION, DEVELOPPABLE PAR PLASMA ET PROCEDE PHOTOLITHOGRAPHIQUE METTANT EN OEUVRE CETTE RESINE.

摘要

COMPOSITION POUR UNE RESINE PHOTOSENSIBLE DE HAUTE RESOLUTION DEVELOPPABLE PAR PLASMA INCLUANT UN POLYMERE ET UN COMPOSE PHOTOSENSIBLE, LE POLYMERE ETANT DE LA FAMILLE DES POLYMERES ACRYLIQUES ETOU POLY(CETONES VINYLIQUES) ET LE COMPOSE PHOTOSENSIBLE ETANT DE LA FAMILLE DES AZIDES AROMATIQUES, CARACTERISEE EN CE QUE LE POLYMERE CONTIENT EN OUTRE DANS UNE CHAINE LATERALE AU MOINS UN NOYAU AROMATIQUE SUR LEQUEL AU MOINS UN ATOME DE CHLORECL A ETE SUBSTITUE A AU MOINS UN ATOME D'HYDROGENEH, COMME PAR EXEMPLE:
(CF DESSIN DANS BOPI)

APPLICATION: MASQUES DE RESOLUTION SUBMICRONIQUE POUR LA REALISATION DE MICROCIRCUITS SEMI-CONDUCTEURS.