发明名称 VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK WITH FRAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT
摘要 증착 패턴에 대응하는 개구부가 형성된 수지 마스크의 면 상에, 슬릿이 형성된 금속 마스크를 적층한 증착 마스크에 있어서, 수지 마스크의 개구부의 내벽면은, 두께 방향 단면에 있어서 적어도 하나의 변곡점을 갖고 있으며, 수지 마스크의 금속 마스크와 접하지 않는 측의 면(제1 면)과 내벽면의 교점을 제1 교점이라고 하고, 수지 마스크의 금속 마스크와 접하는 측의 면(제2 면)과 내벽면의 교점을 제2 교점이라고 하고, 제1 교점으로부터 제2 교점을 향하여 최초로 위치하는 변곡점(제1 변곡점)과 제1 교점을 연결하는 직선과 제1 면이 이루는 각을, 제1 변곡점과 제2 교점을 연결하는 직선과 제2 면이 이루는 각보다 크게 하고, 두께 방향 단면에 있어서의 내벽면의 형상을 제1 면으로부터 제2 면측을 향하여 넓어지는 형상으로 함으로써, 대형화된 경우라도 고정밀화ㆍ경량화를 달성하고, 개구부의 강도를 유지하면서도 섀도우의 발생을 억제 가능한 증착 마스크, 및 정밀도가 양호한 유기 반도체 소자의 제조 방법을 제공한다.
申请公布号 KR20160085824(A) 申请公布日期 2016.07.18
申请号 KR20167015225 申请日期 2014.10.09
申请人 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 发明人 TAKEDA TOSHIHIKO;OBATA KATSUNARI;KAWASAKI HIROSHI
分类号 H01L51/56;B05B15/04;B05C21/00;C23C14/04;C23C16/04;H01L51/00 主分类号 H01L51/56
代理机构 代理人
主权项
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