| 摘要 |
Verfahren zur Beschichtung von Substraten, bei dem der Dampf eines in Form eines Precursors vorliegenden Beschichtungsmaterials durch ein Plasma, welches durch eine Glimmentladung erzeugt wird, aktiviert und in Richtung auf das Substrat geführt wird, wobei der Dampf des Precursors in mindestens einer Aktivierungszone (5) mittels eines durch mindestens eine Plasmaelektrode erzeugten Plasmas, das mindestens eine Plasmazone (3) bildet, aktiviert wird, wobei zwischen der mindestens einen Plasmazone (3) und der mindestens einen Aktivierungszone (5) mindestens eine Dissipationszone (4) zur Herabsetzung der Energie des Plasmas zwischengeschaltet wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Länge der mindestens einen Dissipationszone (4) so gewählt wird, dass bei dem in der Dissipationszone (4) herrschenden Arbeitsdruck die Energie der Elektronen in der Aktivierungszone (5) kleiner als 8 eV ist. |
