发明名称 UN PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UNA ALEACION DE CINC EN UN SUBSTRATO CONDUCTOR.
摘要 <p>PROCEDIMIENTO PARA ELECTRODEPOSITAR UNA ALEACION DE CINC EN UN SUBSTRATO CONDUCTOR. COMPRENDE: A) SUMERGIR EL SUBSTRATO EN UN ELECTROLITO ACIDO ACUOSO CONSTITUIDO POR: A) IONES CINC; B) UN ION METALICO ADICIONAL SELECCIONADO DEL GRUPO FORMADO POR NIQUEL, COBALTO Y MEZCLAS DE ESTOS, PARA ELECTRODEPOSITAR UNA ALEACION DE CINC-NIQUEL, CINC-COBALTO, CINC-NIQUEL-COBALTO; C) UNA CANTIDAD DE 0,001 A 10 G/L DE UN ABRILLANTADOR PRINCIPAL; D) UN ABRILLANTADOR VEHICULO PARA REFINAR EL GRANO DEL ELECRODEPOSITO DE LA ALEACION DE CINC; E) UN ABRILLANTADOR AUXILIAR PARA COMUNICAR BRILLO COMPLEMENTARIO AL ELECTRODEPOSITO DE LA ALEACION DE CINC; Y F) UN DUCTILIZANTE; Y B) HACER PASAR UNA CORRIENTE ELECTRICA A TRAVES DEL ELECTROLITO CON UNA DENSIDAD DE CORRIENTE CATODICA ENTRE 5,5 A/M2 Y 888 A/M2, MANTENIENDOSE EL PH ENTRE 3 Y 6,9 Y LLEVANDOSE A CABO EL PROCESO A UNA TEMMPERATURA ENTRE 15,5 Y 49JC. TIENE UTILIDAD COMO SISTEMA ABRILLANTADOR PARA SOLUCIONES DE ELECTRODEPOSICION DE ALEACIONES DE CINC.</p>
申请公布号 ES8609514(A1) 申请公布日期 1986.12.16
申请号 ES19770005474 申请日期 1985.10.01
申请人 OMI INTERNATIONAL CORPORATION 发明人
分类号 C25D3/56;(IPC1-7):C25D3/56;C22C18/00;C07C143/16 主分类号 C25D3/56
代理机构 代理人
主权项
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