发明名称 真空发生装置
摘要
申请公布号 TW070112 申请公布日期 1985.09.01
申请号 TW073203181 申请日期 1984.05.01
申请人 妙德股份有限公司 发明人
分类号 F04F5/20 主分类号 F04F5/20
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 一种真空发生装置,系设有喷射泵,,乃将压缩空气从喷嘴向隔室内之圆锥孔喷射放出并使隔室内形成负压而在其一例壁具有吸气孔,本.装置之特征为,在上述喷嘴后端可前后移动自如地设有凸缘短管,乃具有,在中心部穿通的压缩空气通路;在先端闭塞上述喷嘴后端的衬垫上;以及在约略中央部连通本体侧的连通孔,又在其本体侧设有与上述通连孔时常连通的中央通孔暨与短管之前室及后室通连的各通孔,在上述中央通孔及各通孔之外侧开口部设有变换孔间连通之变换阀,如此构成者。
地址 日本