发明名称 Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines physikalischen Plasmas
摘要 Verfahren zum Erzeugen eines kalten physikalischen Plasmas (15), dessen Gastemperatur 100°C nicht überschreitet, mit den Schritten: – Anordnen von zwei Elektroden (12, 13) in einem Abstand (11); – Anlegen einer Wechselhochspannung (18) aus bipolaren Spannungspulsen zwischen den Elektroden (12, 13), um eine Gasentladung (14) zwischen den Elektroden (12, 13) hervorzurufen; und – Ausblasen eines Arbeitsgases (5), um eine zwischen den Elektroden (12, 13) verlaufende Entladungsstrecke (10), längs der sich die Gasentladung (14) erstreckt, von dem Abstand (11) weg zu formen; – wobei das Arbeitsgas (5) von jeder der beiden Elektroden (12, 13) weg in zwei sich kreuzenden Richtungen (7, 8) ausgeblasen wird, so dass eine V-förmige Entladungsstrecke (10) ausgebildet wird dadurch gekennzeichnet, – dass das Arbeitsgas (5) so ausgewählt wird, dass es dieselbe Zusammensetzung aufweist wie die Gasatmosphäre in einer Umgebung (6) der Elektroden (12, 13); und – dass ein Stromfluss zwischen den beiden Elektroden (12, 13) durch eine mit einer der Elektroden (12, 13) in Reihe geschaltete Kapazität begrenzt wird.
申请公布号 DE102013106315(B4) 申请公布日期 2016.09.15
申请号 DE201310106315 申请日期 2013.06.18
申请人 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.;Hochschule für angewandte Wissenschaft und Kunst Hildesheim/Holzminden/Göttingen 发明人 Viöl, Wolfgang;Wieneke, Stephan;Rösner, Simon;Damm, Roland
分类号 H05H1/26 主分类号 H05H1/26
代理机构 代理人
主权项
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