发明名称 APPARATUS AND METHODS FOR EFFECTING A BURN-IN PROCEDURE ON SEMICONDUCTOR DEVICES
摘要 Des dispositifs à semi-conducteurs (47) sont montés sur des cartes (46) et installés sur des râteliers sur-elevés (44) faisant saillie sur une cuve (38) formant une chambre de vieillissement accéléré. Les rateliers sont individuellement abaissés pour immerger les dispositifs de fonctionnement dans un milieu liquide (42) à une température élevé. Les râteliers sont accessibles individuellement par l'intermédiaire de segments alignés (34A-34E) d'un couvercle segmenté afin de réduire la pénétration de la vapeur d'eau ambiante. La température du milieu est maintenue en faisant passer celui-ci dans des serpentins de refroidissement (112). Une combinaison de tiges filetées (156) et de leviers (150) permet un pompage à vitesse variable, afin de tenir compte des variations de viscosité du milieu, depuis un moteur à vitesse fixe (134). Le pompage assure également une température uniforme du milieu. Les vapeurs dégagées dans la chambre sont injectées à travers un matériau absorbant l'acide (226) pour éliminer l'acide fluorhydrique et puis à travers les serpentins d'un condenseur (202). L'eau condensée est séparée du milieu condensé dans un séparateur (70) qui possède des cuves profondes et un circuit (286) pour indiquer le niveau d'eau. Le milieu liquide est recyclé vers la chambre de vieillissement accéleré. Un filtre (62) nettoie le milieu liquide.
申请公布号 WO8607158(A1) 申请公布日期 1986.12.04
申请号 WO1986US00070 申请日期 1986.01.16
申请人 FTS SYSTEMS, INC. 发明人 FRASER, DOUGLAS, S.
分类号 B01D17/02;G01R31/26;(IPC1-7):G01R31/00 主分类号 B01D17/02
代理机构 代理人
主权项
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