| 发明名称 | 光学纤维的气密涂层方法 | ||
| 摘要 | 对刚从光学预制件拉出的一种光纤提供两层外部气密涂层。初始涂层是用一种非均匀核化的热化学沉积(HNTD)法，来实现的一种金属或介质涂层。该法使光纤通过一含有一种气体介质的反应区，此介质含有一或几种反应物的混合物。在一预定温度下，前者分解生成而后者反应形成涂层材料。这种预定温度可从光纤制造中保持的热量来获得，该热量通过一种隔热件将其保持在光纤的表面，从而不需附设加热装置。可采用如HNTD法或化学汽相沉积法来沉积第二层涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN85104312A | 申请公布日期 | 1986.12.03 |
| 申请号 | CN85104312 | 申请日期 | 1985.06.07 |
| 申请人 | 国际标准电器公司 | 发明人 | 蒂帕克·兰简·比斯瓦斯;萨泰亚布拉特·雷昌德赫里;S·W·罗恩诺克;N·W·罗恩诺克 |
| 分类号 | C03C25/02 | 主分类号 | C03C25/02 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 王宪模;王申 |
| 主权项 | 1、由光学材料形成的光纤的暴露表面上形成气密涂层的一种方法，其特征在于使光纤(4)通过一种气体介质，此种介质至少含有一种能在预定温度下，经化学反应转变为一种气密涂层(51)材料的反应物，利用光纤(4)从其成形工艺中获得的热含量来提供预定的温度。 | ||
| 地址 | 美国纽约州纽约10022帕克大街320号 | ||