Process for the metallization of a substrate.

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Metallisierung eines Substrates durch galvanische Abscheidung aus derzeit handelsüblichen, zusatzhältigen Galvanik-Badern, wobei während der Schichtbildung oder nach Fertigstellung der Metallschicht in dieser porenartige Öffnungen in einer rasterförmigen Anordnung hergestellt werden. Während einer nachfolgenden Wärmebehandlung können daher möglicherweise zwischen der Metallschicht und dem Substrat eingeschlossene Flüssigkeits- und/oder Gasreste entweichen. Dadurch bleibt eine hohe Haftfestigkeit der Metallschicht erhalten.