COATING OF III-V AND II-VI COMPOUND SEMICONDUCTORS.
摘要
Procédé de fabrication de semiconducteurs de composés III-V et II-VI, consistant à déposer un revêtement de silicium (11) sur le substrat semiconducteur (10), ce revêtement servant de masque de diffusion et/ou couche de passivation. Le revêtement est déposé en évitant d'endommager la surface du semiconducteur.
申请公布号
EP0202240(A1)
申请公布日期
1986.11.26
申请号
EP19850904953
申请日期
1985.10.03
申请人
AMERICAN TELEPHONE AND TELEGRAPH COMPANY
发明人
CAMLIBEL, IRFAN;CHIN, ALAND, KWANG-YU;SINGH, SHOBHA;VAN UITERT, LEGRAND, GERARD;ZYDZIK, GEORGE, JOHN