| 主权项 |
1.下式(I)化合物 其中: R为C1 -C6烷基;为氢, 甲基或乙基; R2为氢或C1 -C3烷基;R3 为氢或C1-C3烷基; R4为C1-C10烷基;n为2, 3,4或5; 或其药理学上可接受酸加成盐制法 ;该方法包括使之胺: 与下式烷基剂在有机溶剂及可作为 酸清除剂之合适之硷存在下于自0至 150 c之温度反应: RSO2X 其R,R1,R2,R4,及 n定义如上,而X为良好移去基;若 需要接着任意地藉盐化以形成药理学 上可接受之酸加成盐。2.根据上述请求专利部份 第1.项之制法 ,其中R为甲基。3.根据上述请求专利部份第1.或2. 项之 制法,其中R1及R2均为氢。4.根据上述请求专利部份 第1.至3.项中 任一项之方法,其中n为3。5.根据上述请求专利部 份第1.至4.项中 任一项之方法,其中RSO2NH-基 为对位取代基。6.根据上述请求专利部份第1.项之 制法 以制N-[4-[4-(乙基庚胺基 ]丁基]苯基]甲磺醯胺,或其药理 学上可接受之酸加成盐。7.根据上述请求专利部 份第1.项之制法 以制N-[4-[4-(乙基庚胺基 ]丁基]苯基]甲磺醯胺单盐酸盐。 |
