| 摘要 |
<p>PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION QUIMICA DE VAPOR DE RECUBRIMIENTOS NO CONTAMINADOS, ALTAMENTE UNIFORMES, DE ELEMENTOS DE COMPUESTOS SELECCIONADOS, SOBRE SUSTRATOS. CONSISTE EN PONER EN CONTACTO EL SUSTRATO CON GASES REACTIVOS QUE FLUYEN EN DIRECCION PARALELA A LA SUPERFICIE EN LA ZONA DE REACCION DE TEMPERATURA CONTROLADA, SIENDO LA DIFERENCIA DE TEMPERATURA A TRAVES DE LA ZONA DE REACCION INFERIOR A DOS GRADOS. LA TEMPERATURA CONTROLADA EN LA CAMARA DE REACCION SE OBTIENE POR CALENTAMIENTO CON RADIACION DE FUENTES DE CALEFACCION RADIANTE, QUE RODEAN SUSTANCIALMENTE LA CAMARA DE REACCION, ESTANDO LAS PAREDES DE DICHA CAMARA DE REACCION FORMADAS POR UN MATERIAL SUSTANCIALMENTE TRANSPARENTE A LA RADIACION. DE APLICACION EN RECUBRIMIENTOS PROTECTORES SOBRE HERRAMIENTAS CORTANTES.</p> |
