| 发明名称 |
CONTROL FOR PROFILE OF PLASMA ETCHING OPEN HOLE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS61256724(A) |
申请公布日期 |
1986.11.14 |
| 申请号 |
JP19860076856 |
申请日期 |
1986.04.04 |
| 申请人 |
INTERNATL BUSINESS MACH CORP <IBM> |
发明人 |
RII CHIEN;GANGAADARA SUWAMI MASADO |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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