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PROCEDIMENTO PER PRODURRE SU UN SUBSTRATO UNO STRATO DOTATO DI STRUTTURA NELLA TECNOLOGIA DEI SEMICONDUTTORI
摘要
申请公布号
IT1143690(B)
申请公布日期
1986.10.22
申请号
IT19770027768
申请日期
1977.09.21
申请人
SIEMENS AG
发明人
分类号
C30B23/04;C30B23/08;H01L21/203;(IPC1-7):H01L/
主分类号
C30B23/04
代理机构
代理人
主权项
地址
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