| 摘要 |
Un film est déposé sur un substrat (25) à partir d'une pluralité de sources de pulvérisation (21 à 23) disposées de telle manière que leurs axes d'émission principaux se coupent en un point commun (26). Le substrat (25) peut être déplacé à travers les faisceaux d'intersection des sources, si bien qu'est formé un film plus grand que la surface des faisceaux d'intersection; les sources (21 à 23) peuvent être contrôlées individuellement, si bien qu'un film de différentes couches peut être formé lorsque le substrat (25) est stationnaire alors que le film est formé de régions de compositions différentes lorsque le substrat est déplacé. Des particules énergétiques neutres peuvent également être dirigées sur le substrat. |
