发明名称 PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'AMELIORATION DE FONDATIONS
摘要 <P>LE PROCEDE COMPREND LA FOURNITURE D'UN PREMIER AJUTAGE 6, D'UN TROISIEME AJUTAGE 9, ET D'UN SECOND AJUTAGE 8 ENTOURANT LE PREMIER AJUTAGE AU DROIT DE LA PAROI LATERALE DE LA PARTIE INFERIEURE D'UNE TIGE D'INJECTION 1, D'UN AJUTAGE DE DIFFUSION 7 A UN ENDROIT SITUE ENTRE LES PREMIER ET TROISIEME AJUTAGES, LA FORMATION D'UN RIDEAU D'EAU A HAUTE PRESSION A PARTIR DE CET AJUTAGE DE DIFFUSION, LA FOURNITURE D'UNE CLOISON ENTRE LE JET D'UN AGENT DE DURCISSEMENT EN PROVENANCE DU TROISIEME AJUTAGE ET UNE PARTIE A INJECTION D'AIR COMPRIME DUE A LA PROJECTION D'EAU FRAICHE ET D'AIR A PARTIR DES PREMIER ET SECOND AJUTAGES PAR UTILISATION DE CE RIDEAU D'EAU, CE QUI PERMET D'EVITER L'ELEVATION DE L'AGENT DE DURCISSEMENT INJECTE POUR L'EXECUTION DE FONDATIONS DE MEILLEURE QUALITE, ET EN MEME TEMPS DE NE PAS GASPILLER L'AGENT DE DURCISSEMENT.</P>
申请公布号 FR2578873(A1) 申请公布日期 1986.09.19
申请号 FR19860003539 申请日期 1986.03.12
申请人 NIT CO LTD 发明人 WATARU NAKANISHI ET TADASHI MORIMOTO;MORIMOTO TADASHI
分类号 E02D3/12;(IPC1-7):E02D3/12 主分类号 E02D3/12
代理机构 代理人
主权项
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