| 主权项 |
1.一种制造通式Ⅰ之化合物之方法: 其中: R1为苯基,随意地被甲基或卤原子 所单或双取代,其取代基可为相 同或不同,随意被卤原子所取代 之联苯墓,或荼基, 啶基或 吩基, R2为卤原子或甲基, A 为次甲基或次甲氧基,其中氧原 子和相邻之B基连结, B 为次苯基或次荼基,而 E 为羟基羰基或烷氧羰基,经由含 2至5碳原子之直链或支链次烷 基,或经由含3至5个碳原子之 次烯基键结,同时必须接于B基 之上述次烷基或次烯基之甲基, 被一羟基次烷基或羰基所替代, 其可在2或3位被含1至3个碳 原子之烷氧基所取代,可含1至 3个碳原子,或碳结构上随意被 1至2烷基(总共之含1至3个 碳原子)所取代之 唎 -3- 酮-6-基或4,5-二氢 唎 -3-酮-6-基,及其和无机或 有机硷之盐类,若E含或为羟基羰基 ,其特点在: (a)将通式Ⅱ之化合物: 其中 R2,A,B之定义如上,但E基中 之羟基,可用水解或氢解可去除之保 护基,诸如烷氧基或 氧基保护, 以通式(Ⅲ)之苯基磺酸衍生物加以 醯化: 其中: R1之定义如上,而 X为亲核之离基,随后使任意所用之 保护基脱离,或 (b)为了制备通式Ⅰ中E为经由次烷 基或次烯基键解之羟基羰基之化 合物: 由通式Ⅳ之化合物,水解,氢解 或热解以脱除保护基: 其中: R1,R2,A和B之定义如上,而 E1具有如上述E所述之意义,但羰 基被一可由水解,热解或氢解去除之 保护基所保护,或构成羰基之官能衍 生物,及/或E1基含被保护基保护 之羟基,或 (c)为了制备E和B基相邻且含羰基 之通式Ⅰ化合物,将通式Ⅴ之化 合物: 其中: R1,R2,A和B之定义如上: 以通式Ⅵ之化合物在路易士酸存在下 醯化: 其中E2具有上述E之意义,但邻近 于Y之E必须含羰基,同时任何羟基 羰基可被水解或氢解可去除之保护基 ,诸如烷氧基或 基所保护,而Y为 亲核离基,或其酸 ,在路易士酸存 在下,随意地移除其保护基,或 (d)为了制备其中和B基相邻之E含 羟基次甲基之通式Ⅰ化合物: 还原通式Ⅷ之化合物: 其中: R1,R2,A和B之定义如上,而 E3之意义同上述之E,但E必须含 羰基,或 (e)为了制备通式Ⅰ中E为上述饱和 基之一者之化合物: 将通式Ⅷ之化合物氢化: 其中R1,R2,A和B之定义如上 ,而E4为上述E所示之不饱和基之 一者,或 (f)为了制备通式Ⅰ中E为上述经由 饱和次烷基键造之羟基羰基之化 合物: 将通式Ⅸ之化合物脱酸: 随意地制成反应混合物, 其中R1,R2,A和B之定义如上 ,而 E5在相同碳原子上,经由含1至5 个碳原子之直键或支链次烷基,键结 两个羟基羰基,同时,E5基中接于 B基之次甲基,被羟基次甲基或羰基 所取代, 脱羧及应最好在酸,诸如盐酸,硫酸 ,氢溴酸或磷酸,或 (g)为制备通式Ⅰ中E为 唎 酮环之 化合物: 使通式Ⅹ之化合物和胼反应: 其中: R1,R2,A和 B之定义如上, R6和R7为相同或不同,为氢原子 或烷基,同时R6和R7一起可含共 1至3个碳原子,而W为氢原子或和 其他键结在一起,或其活性衍生物, 诸如其酯,醯胺,或卤化物,或 (h)为了制备通式Ⅰ中A为次甲氧基 之化合物: 使通式 之化合物: 其中: R1和R2之定义如上,而Z为亲核 之离基,诸如卤素原子或磺酸氧基, 和通式 之化合物反应: 其中 B和E之定义如上,同时E中所有羟 基可被可水解去除之保护基,诸如烷 氧基或 氧基所保护,所有之保护基 随后均被转化,且所得通式Ⅰ之酯, 可于随后被转化成羧酸,或 (i)为了制备通式Ⅰ中E为烷氧羰基 次甲基羰基,其随意地在-位 上被甲基或乙基斯取代之化合物 : 使通式ⅩⅢ之化合物: 其中: R1,R2,A和B之定义如上,而 R8为氢原子或甲基或乙基,在硷存 在下,和二烷基碳酸酯反应,且随后 必要时,若所得通式Ⅰ之化合物含羧 基时,可用无机或有机酸将其转化成 加成盐,尤其是其药理可接受之加成 盐,作为医药用途。2.如请求专利部份第1.项所述 之方法, 其特点在:反应系于溶剂中进行。3.如请求专利部 份第1a或2项所述之 方法,特点在:该反应系在酸结合剂 存在下进行。4.如请求专利部份第1a,2.或3.项所 述之方法,特点在:反应系在0至 5O℃,以周围温度为较佳之温度下 进行。5.如请求专利部份第1b或2.项所述之 方法,其特点在:水解脱除系在酸存 在下,或硷存在下,于-10至120 ℃之温度下进行。6.如请求专利部份第1b或2.项所 述之 方法,其特点在: 或胺基羰基在酸 存在下,于0至50℃之温度,被亚 硝酸盐转化成羧基。7.如请求专利部份第1b或2.项 所述之 方法,其特点在 或胺基羰基在100 至180℃以120至160℃为较佳之温 度下,以100%磷酸转化成羧基。8.如请求专利部份第 1b或2.项所述之 方法,其特点在: 氧基在氢化催化 剂存在下,于0至50℃下被氢化脱 除。9.如请求专利部份第1b或2.项所述之 方法,其特点在:第三丁氧羰基在酸 存在下,于所用溶剂之沸点,以40 至100℃为较佳之温度下,被热解脱 除。10.如请求专利部份第1c或2.项所述之 方法,其特点在反应系在路易士酸诸 如氯化铝,三氢化硼和氯化锌存在下 进行。11.如请求专利部份第1c,2.或10.项所 述之方法,其特点在:反应系在0至 5O℃,以周围温度为较佳之温度下 进行。12.如请求专利部份第1d或2.项所述之 方法,其特点在:还原系在催化活化 之氢存在下,或在氢化金属存在下进 行。13.如请求专利部份第1d,2.或12.项所 述之方法,其特点在:反应系在0至 100℃,以20至80℃为较佳之温 度进行。14.如请求专利部份第1e或2.项所述之 方法,其特点在:氢化系在催化活化 或初生态氢存在下进行。15.如请求专利部份第1e 或2.项所述之 方法,其特点在:氢化系在0至50 ℃,以周围温度为较佳之温度下进行 。16.如请求专利部份第1f或2.项所述之 方法,其特点在:脱羧系在酸存在下 ,于反应混合物之沸点,以80至 1OO℃为较佳之温度下进行。17.如请求专利部份第1 g或2.项所述之 方法,其特点在:反应系在0至200 ℃,以反应混合物之沸点为较佳之温 度下进行。18.如请求专利部份第1h或2.项所述之 方法,其特点在:反应系在无水硷存 在下,于25至100℃,以40至 80℃为较佳之温度下进行。19.如请求专利部份第1i 或2.项所述之 方法,其特点在:反应系在第三丁氧 化钾存在下,及50至150℃,以 75至100℃为较佳之温度下进行。 |
