BARREL REACTOR AND METHOD FOR PHOTOCHEMICAL VAPOR DEPOSITION.

摘要

Un appareil pour déposition photochimique de la phase de vapeur comprend une couverture extérieure (12) et une couverture intérieure (34) concentrique qui définissent une zone (22) de réaction photochimique. Une source de radiation (30) est située au centre de la couverture intérieure transparente (34) qui isole la source de radiation (30) des réactifs de la phase de vapeur présents dans la zone de réaction (22). Un distributeur rotatif (58) de gaz est situé dans la zone de réaction (22) afin de distribuer uniformément les réactifs de la phase de vapeur dans la zone de réaction. Un liquide protecteur est constament appliqué sur la surface extérieure (44) de la couverture intérieure (34) et distribué par des balais d'essuie-glace (52) en une fine pellicule afin d'empêcher la déposition des produits de réaction sur la paroi extérieure (38) de la couverture intérieure (34). La localisation centrale de la source de radiation (30), de même que la pellicule de liquide protecteur, permettent une utilisation optimale de la radiation inductrice de réaction émise par la source de radiation. En outre, le distributeur rotatif de gaz (58) favorise la déposition uniforme de couches de matériaux sélectionnés sur des substrats (62) placés dans la zone de réaction (22).