| 发明名称 |
Photosensitive resin composition |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2171107(A) |
申请公布日期 |
1986.08.20 |
| 申请号 |
GB19860003366 |
申请日期 |
1986.02.11 |
| 申请人 |
* NAPP SYSTEMS |
发明人 |
SEIO * MAMORU;HIDEFUMI * KUSUDA;MASAMI * KAWABATA |
| 分类号 |
C08F20/00;A63F9/24;C08F2/44;C08F2/50;C08F20/26;C08F20/38;C08F20/52;C08F30/00;C08F30/02;C08F220/00;C08F220/04;C08F220/26;C08F220/38;C08F220/58;C08F230/02;C08F290/12;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/033;G03F7/038;H01L21/027;(IPC1-7):C08F2/50;C08F279/02;G03C1/68 |
主分类号 |
C08F20/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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