| 发明名称 |
DISPOSITIVO PER LA FORMAZIONE EPITASSIALE DI UNO STRATO DI MATERIALE SEMICONDUTTORE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT1135014(B) |
申请公布日期 |
1986.08.20 |
| 申请号 |
IT19810019108 |
申请日期 |
1981.01.13 |
| 申请人 |
PHILIPS GLOEILAMPENFABRIEKEN N.V. |
发明人 |
LESWIN WILLEM JOCHEM |
| 分类号 |
H01L21/208;C30B19/06;C30B19/10;H01S5/00;(IPC1-7):H01L/ |
主分类号 |
H01L21/208 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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