发明名称 ENDODONTIC IMPLANT; ION-IMPLANTED.
摘要 Un implant endo-dentaire (10) en métal a comme couche superficielle une implantation d'ions (14) d'un métal dissimilaire ou d'un gaz. La couche à ions implantés peut être co-extensive avec tout l'implant endo-dentaire sous-jacent, ou peut recouvrir des zones sélectionnées pour remplir des fonctions diverses. La dégradation secondaire à long terme est ralentie par cet implant endo-dentaire.
申请公布号 EP0191076(A1) 申请公布日期 1986.08.20
申请号 EP19850904207 申请日期 1985.08.13
申请人 JACOB, EZEKIEL J. 发明人 JACOB, EZEKIEL J.
分类号 A61C13/30;(IPC1-7):A61C5/00 主分类号 A61C13/30
代理机构 代理人
主权项
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