发明名称 | 光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法 | ||
摘要 | 本发明属于涂层材料和制造方法。通过采用真空镀膜工艺,控制蒸镀时的气氛和压力,制备一种具有光谱选择特性好的黑铝镀层。该涂层的太阳能吸收率大于0.87,红外热发射率大于0.13且可适金属、玻璃及有机材料等多种类型的底材,具有制备工艺简单,可实现大面积连续生产等优点,是一种有广泛应用前景的太阳能光热利用材料。 | ||
申请公布号 | CN85100509A | 申请公布日期 | 1986.08.13 |
申请号 | CN85100509 | 申请日期 | 1985.04.01 |
申请人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明人 | 胡行方;秦淑引;田静芬;胡美凤 |
分类号 | C23C14/14;F24J2/48 | 主分类号 | C23C14/14 |
代理机构 | 中国科学院上海专利事务所 | 代理人 | 潘振甦 |
主权项 | 1、一种光谱选择吸收特性好的涂层材料,其特征在于主要是金属铝组成的黑铝涂层。 | ||
地址 | 上海市长宁路865号 |