发明名称 光谱选择性吸收黑铝涂层及制造方法
摘要 本发明属于涂层材料和制造方法。通过采用真空镀膜工艺,控制蒸镀时的气氛和压力,制备一种具有光谱选择特性好的黑铝镀层。该涂层的太阳能吸收率大于0.87,红外热发射率大于0.13且可适金属、玻璃及有机材料等多种类型的底材,具有制备工艺简单,可实现大面积连续生产等优点,是一种有广泛应用前景的太阳能光热利用材料。
申请公布号 CN85100509A 申请公布日期 1986.08.13
申请号 CN85100509 申请日期 1985.04.01
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 胡行方;秦淑引;田静芬;胡美凤
分类号 C23C14/14;F24J2/48 主分类号 C23C14/14
代理机构 中国科学院上海专利事务所 代理人 潘振甦
主权项 1、一种光谱选择吸收特性好的涂层材料,其特征在于主要是金属铝组成的黑铝涂层。
地址 上海市长宁路865号