Acoustic-wave filter.

摘要

Nach fotolithografischem Verfahren mit Abhebe- oder mit Ätztechnik herzustellende Digitalstrukturen (3.4; 20,40) eines Oberflächenwellenfilters (1) mit wenigstens einer Resonatorstruktur (20, 40), wobei der Resonatorstruktur Zusatzbelegungen (9, 9a; 19, 19a) der Substratoberfläche zugeordnet sind, die als Fortsetzungen vorhandener benachbarter Pads (7, 7a; 17, 17a) anzusehen sind.