发明名称 Light-sensitive composition, registration material prepared thereof, and process for obtaining heat-resistant relief images.
摘要 Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch und ein daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Druckplatten und Photoresists beschrieben, das ein 1, 2-Chinondiazid oder eine Kombination aus 1.) einer unter Einwirkung von atkinischer Strahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und 2.) einer Verbindung mit mindestens einer spaltbaren C-O-C Bindung enthält, deren Löslichkeit in einem flüssigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, und als Bindemittel ein Polymeres mit seitenständigen vernetzenden Gruppen der Formel -CH2OR enthält, worin R ein Wasserstoffatom, eine niedere Alkyl-, Acyl- oder Hydroxyalkylgruppe ist. Das Gemisch läßt sich nach dem Belichten und Entwickeln thermisch härten und ergibt eine Bildschablone mit sauberem Hintergrund.
申请公布号 EP0184044(A2) 申请公布日期 1986.06.11
申请号 EP19850114454 申请日期 1985.11.14
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SCHNELLER, ARNOLD, DR. DIPL.-CHEM.;GEISSLER, ULRICH, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 G03C1/72;C08K5/42;C08L33/00;C08L33/02;C08L33/24;G03F7/004;G03F7/022;G03F7/023;G03F7/039;H01L21/027;H05K3/06;(IPC1-7):G03F7/08;G03F7/10 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
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