| 发明名称 |
METHOD OF PRODUCING A SEMICONDUCTOR DEVICE BY ION-IMPLANTATION AND DEVICE PRODUCED BY THE METHOD |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0103767(A3) |
申请公布日期 |
1986.06.11 |
| 申请号 |
EP19830108255 |
申请日期 |
1983.08.22 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
AJIMA, TAKASHI;OHSHIMA, JIRO;KOSHINO, YUTAKA |
| 分类号 |
H01L21/22;H01L21/265;H01L21/266;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/22 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
