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发明名称 SCANNING ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM
摘要
申请公布号 EP0098177(A3) 申请公布日期 1986.06.04
申请号 EP19830303812 申请日期 1983.06.30
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 KAWASHIMA, KENICHI;OSADA, TOSHIHIKO;NAKAGAWA, KENJI
分类号 H01L21/027;H01J37/302;H01J37/317;H01L21/30;(IPC1-7):H01J37/302 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
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