| 发明名称 |
APPAREIL ET PROCEDE DE DEPOT A LA VAPEUR POUR LA REALISATION DE SEMI-CONDUCTEURS |
| 摘要 |
<P>A.PROCEDE ET APPAREIL POUR EFFECTUER DES DEPOTS A LA VAPEUR.</P><P>B.APPAREIL COMPRENANT UNE CHAMBRE DE REACTION 11 DANS LAQUELLE SE TROUVE UN RECEPTEUR 14, 15 ENTRAINE EN ROTATION AUTOUR DE SON AXE ET QUI PORTE DES RECEPTEURS 17 MUNIS D'ENGRENAGES CONIQUES 20 ENGRENANT AVEC UNE COURONNE DENTEE 21, CES RECEPTEURS PORTANT LES PLAQUETTES 16 SEMI-CONDUCTRICES ET LA CHAMBRE 11 AYANT UNE ENTREE DE GAZ DE REACTION 12 EN PARTIE HAUTE, DIRIGEE ESSENTIELLEMENT VERS LE BAS ET UNE EVACUATION 13 A SA BASE.</P><P>C.L'INVENTION S'APPLIQUE A UN APPAREIL ET UN PROCEDE DE DEPOT A LA VAPEUR POUR LA REALISATION DE SEMI-CONDUCTEURS.</P>
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| 申请公布号 |
FR2573917(A1) |
申请公布日期 |
1986.05.30 |
| 申请号 |
FR19850017519 |
申请日期 |
1985.11.27 |
| 申请人 |
SONY CORP |
发明人 |
KEIICHI YONEYAMA, KIKUO KAISE ET MASAAKI AYABE;KAISE KIKUO;AYABE MASAAKI |
| 分类号 |
C23C16/458;C30B25/02;C30B25/12;H01L21/20;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C23C16/458 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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