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发明名称 METHOD FOR PHOTOLITHOGRAPHIC PATTERN GENERATION IN A PHOTORESIST LAYER
摘要
申请公布号 EP0072933(B1) 申请公布日期 1986.05.28
申请号 EP19820106777 申请日期 1982.07.27
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 ABRAHAMOVICH, KAREN MARIE;HAMEL, CLIFFORD JOSEPH;PAYNE, EDWARD HENRY;WEED, DEAN ROBERT
分类号 H01L21/30;G03F7/00;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/312;H01L21/308 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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