发明名称 |
Schottky contact on a semiconductor surface and method of making the same. |
摘要 |
Mit einem Schottky-Kontakt auf einer Halbleiteroberfläche, (3) der einen dotierten, selbstjustierend angebrachten Schutzring (7) im Halbleiterrandbereich des Schottky- Kontaktes aufweist und bei dem Teile des Halbleiterrandbereiches mittels mindestens einer Schicht abgedeckt sind, und mit einem Verfahren zur Herstellung eines solchen Schottky-Kontaktes soll es möglich sein, eine Verbesserung der elektrischen Eigenschaften des Schottky- Kontaktes und eine Verbesserung der Ausbeute bei der Produktion des Schottky-Kontaktes zu erzielen. Außerdem soll eine Hochtemperaturbehandlung des Schottky-Kontaktes möglich sein. Mindestens eine Schicht, die Teile des Halbleiterrandbereiches abdeckt, ist als eine selbstjustierende Schutzschicht (5; 21, 22; 32; 33, 34) für den Schutzring (7) angebracht.
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申请公布号 |
EP0182088(A1) |
申请公布日期 |
1986.05.28 |
申请号 |
EP19850113023 |
申请日期 |
1985.10.14 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
LOSEHAND, REINHARD, DIPL.-PHYS.;EGER, HELMUT, DIPL.-PHYS. |
分类号 |
H01L29/06;H01L29/47;H01L29/872;(IPC1-7):H01L29/91 |
主分类号 |
H01L29/06 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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