发明名称 Schottky contact on a semiconductor surface and method of making the same.
摘要 Mit einem Schottky-Kontakt auf einer Halbleiteroberfläche, (3) der einen dotierten, selbstjustierend angebrachten Schutzring (7) im Halbleiterrandbereich des Schottky- Kontaktes aufweist und bei dem Teile des Halbleiterrandbereiches mittels mindestens einer Schicht abgedeckt sind, und mit einem Verfahren zur Herstellung eines solchen Schottky-Kontaktes soll es möglich sein, eine Verbesserung der elektrischen Eigenschaften des Schottky- Kontaktes und eine Verbesserung der Ausbeute bei der Produktion des Schottky-Kontaktes zu erzielen. Außerdem soll eine Hochtemperaturbehandlung des Schottky-Kontaktes möglich sein. Mindestens eine Schicht, die Teile des Halbleiterrandbereiches abdeckt, ist als eine selbstjustierende Schutzschicht (5; 21, 22; 32; 33, 34) für den Schutzring (7) angebracht.
申请公布号 EP0182088(A1) 申请公布日期 1986.05.28
申请号 EP19850113023 申请日期 1985.10.14
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 LOSEHAND, REINHARD, DIPL.-PHYS.;EGER, HELMUT, DIPL.-PHYS.
分类号 H01L29/06;H01L29/47;H01L29/872;(IPC1-7):H01L29/91 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
地址