A METHOD OF GROWING SILICATE GLASS LAYERS EMPLOYING A CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION PROCESS,申请号IE19800002663-传众专利搜索

发明名称	A METHOD OF GROWING SILICATE GLASS LAYERS EMPLOYING A CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION PROCESS
摘要
申请公布号	IE50552(B1)	申请公布日期	1986.05.14
申请号	IE19800002663	申请日期	1980.12.17
申请人	FUJITSU LIMITED	发明人
分类号	C23C16/40;C23C16/455;C30B31/02;H01L21/225;H01L21/316	主分类号	C23C16/40
代理机构		代理人
主权项
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